Mesin Pelapis Bubuk Kaca Horizonta

Sebuah abrasi terjadi pertama-tama "permukaan".

Sebuah gesekan dipengaruhi oleh kondisi "permukaan". Permukaan memiliki arti yang sangat penting dalam fenomena tersebut. Jika kita dapat membuat satu-satunya permukaan barang menjadi lebih keras, kita dapat mengurangi abrasi, memperpanjang umur pahat dari pahat potong, punch/die, part. Jika kita dapat membuat satu-satunya permukaan barang lebih banyak pelumas, kita dapat menghindari lengket, meningkatkan efisiensi energi.

PVD adalah teknologi pelapisan yang membentuk beberapa mikron film keras pada alat. Kekerasan PVD lebih tinggi dari bahan super keras tungsten carbide. Dibandingkan dengan hard-chromium, nitriding juga, film PVD jauh lebih sulit. Satu-satunya film mikron yang meningkatkan sifat anti-aus secara dramatis.

Karena ketebalannya beberapa mikron, kita dapat menghindari masalah perubahan dimensi kecuali aplikasi yang membutuhkan akurasi yang sangat tepat.

Selain itu, kekerasan baja temper suhu tinggi seperti SKH, SKD tidak hilang karena suhu pelapisan dikontrol pada 450 derajat. Layanan pelapisan PVD kami dapat dipilih di antara empat jenis film seperti tabel berikut. Teknisi kami akan menyarankan film mana yang paling cocok untuk aplikasi Anda.

LAPISAN FILMAlat BAHAN Alat yang sesuai Suhu mantel Warna

TimahKarbida, Hss Umum 450 derajat Emas

TiCNKarbida, Pukulan / Mati Hss 450 derajat Coklat

TiAINKarbida, Hss Umum, HOB 450 derajat Hitam

CrNKarbida, Hss Die 450 derajat Perak

DLCKarbida, Alat Hss untuk Aluminium 200-300 derajat Hitam

ACXCabide, Alat Pemotong Kering Hss

Mati Suhu Tinggi

/Cetakan 480 derajat PerakHitamPerbedaan antara sputtering dan pelapisan penguapan dari mesin pelapis bubuk kaca horizonta

Ada banyak jenis peralatan pelapis, dan ada perbedaan yang berbeda antara peralatan yang berbeda. Berikut ini adalah perbedaan antara sputtering dan pelapisan evaporasi.

Penguapan pemanasan komponen permukaan target berupa radikal bebas atau ion yang diuapkan dan diproses pada permukaan substrat, dan proses pembentukan film (struktur pulau hamburan struktur saraf vagal pertumbuhan berlapis) membentuk film tipis.

Keseragaman komposisi pelapis evaporasi tidak mudah dijamin, dan dapat dikontrol dengan faktor-faktor tertentu, tetapi karena prinsip yang terbatas, untuk pelapis non-komponen tunggal, keseragaman komposisi pelapis evaporasi tidak baik. Sputtering secara sederhana dapat dipahami sebagai penggunaan elektron atau laser energi tinggi untuk membombardir target, sehingga radikal bebas atau bentuk ion dari konstituen permukaan tergagap dan disimpan pada permukaan substrat selama proses pembentukan film, pengalaman, dan akhirnya pembentukan film tipis. Peralatan untuk Vacuum Coaters Sputtering dibagi menjadi banyak jenis, di mana tingkat sputtering berbeda dan penguapan akan menjadi parameter utama.

Keseragaman komposisi pelapis sputtered PLD laser sputtering mudah dipertahankan, dan keseragaman ketebalan pada skala atom buruk (karena sputtering berdenyut), dan kontrol pertumbuhan orientasi kristalografi (out-of-) juga lebih umum.

Di atas menjelaskan perbedaan antara sputtering dan pelapisan penguapan peralatan pelapis. Peralatan yang berbeda memiliki kelebihan dan kekurangan yang berbeda. Anda dapat membelinya sesuai dengan situasi Anda sendiri.

Parameter

Aplikasi

Perusahaan kita

Tag populer: mesin pelapis bubuk kaca horizontala, Cina, pemasok, produsen, pabrik, disesuaikan, beli, harga, kutipan